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  Hydrogen and acceptor compensation in GaN

Van de Walle, C. G., Johnson, N. M., & Neugebauer, J. (1999). Hydrogen and acceptor compensation in GaN. In S. Strite, I. Akasaki, H. Amano, & C. Wetzel (Eds.), Properties, Processing and Applications of Gallium Nitride and Related Semiconductors (pp. 317-321). INSPEC.

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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Van de Walle, Chris G.1, Autor
Johnson, N. M., Autor
Neugebauer, Jörg2, Autor           
Affiliations:
1Max Planck Society, ou_persistent13              
2Theory, Fritz Haber Institute, Max Planck Society, ou_634547              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 1999
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 2448
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Properties, Processing and Applications of Gallium Nitride and Related Semiconductors
Genre der Quelle: Buch
 Urheber:
Strite, S., Herausgeber
Akasaki, I., Herausgeber
Amano, H., Herausgeber
Wetzel, C., Herausgeber
Affiliations:
-
Ort, Verlag, Ausgabe: INSPEC
Seiten: 656 Band / Heft: - Artikelnummer: - Start- / Endseite: 317 - 321 Identifikator: ISBN: 0-85296-953-8

Quelle 2

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Titel: EMIS datareview series
Genre der Quelle: Reihe
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 23 Artikelnummer: - Start- / Endseite: - Identifikator: -