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  Age hardening in (Ti1 − xAlx)B2 + Δ thin films

Mockute, A., Palisaitis, J., Alling, B., Berastegui, P., Broitman, E., Näslund, L. Å., Nedfors, N., Lu, J., Jensen, J. M., Hultman, L., Patscheider, J., Jansson, U., Persson, P. O. Å., & Rosén, J. A. (2017). Age hardening in (Ti1 − xAlx)B2 + Δ thin films. Scripta Materialia, 127, 122-126. doi:10.1016/j.scriptamat.2016.09.021.

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基本情報

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0001-714A-D 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0001-7157-E
資料種別: 学術論文

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作成者

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 作成者:
Mockute, Aurelija1, 著者           
Palisaitis, Justinas1, 著者           
Alling, Björn2, 3, 著者           
Berastegui, Pedro4, 著者           
Broitman, Esteban1, 著者           
Näslund, Lars Åke1, 著者           
Nedfors, Nils1, 著者           
Lu, Jun5, 著者           
Jensen, Jens M.3, 著者           
Hultman, Lars3, 著者           
Patscheider, Joerg6, 著者           
Jansson, Ulf4, 著者           
Persson, Per Ola Åke1, 著者           
Rosén, Johanna A.1, 著者           
所属:
1Thin Film Physics Division, Department of Physics, Chemistry, and Biology (IFM), Linköping University, Linköping, Sweden, persistent22              
2Adaptive Structural Materials (Simulation), Computational Materials Design, Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH, Max Planck Society, ou_1863339              
3Department of Physics, Chemistry and Biology (IFM), Thin Film Physics Division, Linköping University, Linköping, Sweden, ou_persistent22              
4Department of Materials Chemistry, Ångström Laboratory, Uppsala University, P.O. Box 583, Uppsala, Sweden, persistent22              
5Department of Physics Chemistry, and Biology (IFM), Linköping University, Linköping, Sweden, persistent22              
6Laboratory of Nanoscale Materials Science, Empa, Überlandstr. 129, 8600 Dübendorf, Switzerland, ou_persistent22              

内容説明

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キーワード: Aluminum; Annealing; Hardening; Hardness; Mechanical properties; Phase separation; Thin films, Annealed state; B matrixes; Columnar microstructures; Grain interiors; Hardness and elastic modulus; High hardness; Post deposition annealing; Titanium diboride, Age hardening
 要旨: Thin films of (Ti0.71Al0.29)B2 + 1.08 have been deposited by magnetron sputtering. Post-deposition annealing at 1000 °C for 1 h results in increased hardness and elastic modulus, from 32 to 37 GPa and from 436 to 461 GPa, respectively. In both as-deposited and annealed states the films adhere well to the substrate, indicating no considerable internal stress. The initial high hardness is attributed to a columnar microstructure consisting of crystalline (Ti,Al)B2 columns separated by an amorphous B matrix. The observed age hardening corresponds to phase separation within the (Ti,Al)B2 columns including the formation of Ti-deficient crystallites within the grain interior upon annealing. © 2016 Acta Materialia Inc.

資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2017-01-15
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子（DOI, ISBNなど）: DOI: 10.1016/j.scriptamat.2016.09.021
BibTex参照ID: Mockute2017122
 学位: -

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出版物 1

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出版物名: Scripta Materialia
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: Amsterdam : Elsevier B. V.
ページ: - 巻号: 127 通巻号: - 開始・終了ページ: 122 - 126 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISSN: 1359-6462
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954926243506