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  Electron induced chemical nanolithography with self-assembled monolayers

Geyer, W., Stadler, V., Eck, W., Gölzhäuser, A., Grunze, M., Sauer, M., Weimann, T., & Hinze, P. (2001). Electron induced chemical nanolithography with self-assembled monolayers. Journal of Vacuum Science and Technology B, 19(6), 2732-2735. doi:10.1116/1.1421560.

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基本情報

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0001-BE1B-C 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0001-BE1C-B
資料種別: 学術論文

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:
JVacuumSciTechnolB _19_2001_2732.pdf (全文テキスト(全般)), 455KB
 
ファイルのパーマリンク:
-
ファイル名:
JVacuumSciTechnolB _19_2001_2732.pdf
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-
OA-Status:
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制限付き (Max Planck Institute for Medical Research, MHMF; )
MIMEタイプ / チェックサム:
application/pdf
技術的なメタデータ:
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-
著作権情報:
-
CCライセンス:
-

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URL:
http://avs.scitation.org/doi/pdf/10.1116/1.1421560 (全文テキスト(全般))
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https://doi.org/10.1116/1.1421560 (全文テキスト(全般))
説明:
-
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作成者

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 作成者:
Geyer, W., 著者
Stadler, V., 著者
Eck, W., 著者
Gölzhäuser, A., 著者
Grunze, M.1, 著者           
Sauer, M., 著者
Weimann, T., 著者
Hinze, P., 著者
所属:
1Cellular Biophysics, Max Planck Institute for Medical Research, Max Planck Society, ou_2364731              

内容説明

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キーワード: -
 要旨: We demonstrate a simple scheme to generate chemical surface nanostructures. Electron-beam writing is used to locally modify the terminal nitro functionality in self-assembled monolayers of 4′-nitro-1,1′-biphenyl-4-thiol to amino groups, while the underlying aromatic layer is dehydrogenated and cross linked. Using low energy electron proximity printing and conventional electron-beam lithography with a beam energy of 2.5 keV and doses from 2500 to 50 000 μC/cm2, templates of reactive amino sites with lateral dimensions down to ∼20 nm could be fabricated. The templates were used for the surface immobilization of fluorinated carboxylic acid anhydrides and rhodamine dyes. The molecular structures were then imaged and analyzed by atomic force and scanning confocal fluorescence microscopy.

資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2001-06-012001-10-082001-12-142001
 出版の状態: 出版
 ページ: 4
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子(DOI, ISBNなど): DOI: 10.1116/1.1421560
 学位: -

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訴訟

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出版物 1

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出版物名: Journal of Vacuum Science and Technology B
  その他 : JVST B
  その他 : J. Vac. Sci. Techn. B
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: New York : Published by AVS through the American Institute of Physics
ページ: - 巻号: 19 (6) 通巻号: - 開始・終了ページ: 2732 - 2735 識別子(ISBN, ISSN, DOIなど): ISSN: 0734-2101
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954928495416