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  Pipe-diffusion ripening of Si precipitates in Al-0.5% Cu-1%Si thin films

Legros, M., Kaouache, B., Gergaud, P., Thomas, O., Dehm, G., Balk, T. J., et al. (2005). Pipe-diffusion ripening of Si precipitates in Al-0.5% Cu-1%Si thin films. Philosophical Magazine, 85(30), 3541-3552. doi:10.1080/14786430500228374.

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Basisdaten

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Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Legros, Marc1, Autor           
Kaouache, Belkhiri2, Autor           
Gergaud, Patrice3, Autor           
Thomas, Olivier4, Autor           
Dehm, Gerhard5, Autor           
Balk, Thomas John5, Autor           
Arzt, Eduard5, 6, Autor           
Affiliations:
1CEMES-CNRS, 29 rue J. Marvig, 31055 Toulouse, France, ou_persistent22              
2LPMM, ENSAM, Technopole, 4 rue Augustin Fresnel, 57078 Metz, France, persistent22              
3Laboratoire TECSEN, Faculté des Sciences de St. Jérôme, 13397 Marseille, France, persistent22              
4CNRS, IM2NP (UMR 6242), Campus de Saint-Jérôme, Marseille, France, ou_persistent22              
5Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497655              
6Universität Stuttgart, Institut für Metallkunde, ou_persistent22              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2005-10-21
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 242444
DOI: 10.1080/14786430500228374
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Philosophical Magazine
  Kurztitel : Philos. Mag.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: Milton Park, Abingdon, England : Taylor & Francis
Seiten: - Band / Heft: 85 (30) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 3541 - 3552 Identifikator: ISSN: 1478-6435
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925265237