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  Ion chemistry in H2-Ar low temperature plasmas

Sode, M., Schwarz-Selinger, T., & Jacob, W. (2013). Ion chemistry in H2-Ar low temperature plasmas. Journal of Applied Physics, 114: 063302 (16pp). doi:10.1063/1.4817526.

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Sode_Ion.pdf (beliebiger Volltext), 368KB
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Sode_Ion.pdf
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Öffentlich
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application/pdf / [MD5]
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Copyright Info:
eDoc_access: PUBLIC
Lizenz:
-

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Urheber

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 Urheber:
Sode, M.1, Autor           
Schwarz-Selinger, T.1, Autor           
Jacob, W.1, Autor           
Affiliations:
1Plasma Edge and Wall (E2M), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856327              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2013
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 655951
DOI: 10.1063/1.4817526
URI: http://dx.doi.org/10.1063/1.4817526
 Art des Abschluß: -

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Applied Physics
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: American Institute of Physics
Seiten: - Band / Heft: 114 Artikelnummer: 063302 (16pp) Start- / Endseite: - Identifikator: -