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  Surface modification with orthogonal photosensitive silanes for sequential chemical lithography and site-selective particle deposition

del Campo, A., Boos, D., Spiess, H. W., & Jonas, U. (2005). Surface modification with orthogonal photosensitive silanes for sequential chemical lithography and site-selective particle deposition. Angewandte Chemie International Edition, 44(30), 4707-4712. doi:10.1002/anie.200500092.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-000F-5C46-5 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-002A-EBA4-6
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
del Campo, A.1, Autor           
Boos, D.1, Autor           
Spiess, Hans Wolfgang1, Autor           
Jonas, Ulrich1, Autor           
Affiliations:
1MPI for Polymer Research, Max Planck Society, ou_1309545              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2005
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 238013
Anderer: P-05-234
DOI: 10.1002/anie.200500092
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Angewandte Chemie International Edition
  Andere : Angewandte Chemie, International Edition
  Kurztitel : Angew. Chem. Int. Ed.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: Weinheim : Wiley-VCH
Seiten: - Band / Heft: 44 (30) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 4707 - 4712 Identifikator: ISSN: 1433-7851
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/1433-7851