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  LOW temperature growth of gallium oxide thin films via plasma enhanced atomic layer deposition

O’Donoghue, R., Rechmann, J., Aghaee, M., Rogalla, D., Becker, H.-W., Creatore, M., et al. (2017). LOW temperature growth of gallium oxide thin films via plasma enhanced atomic layer deposition. Dalton Transactions, 46, 16551-16561. doi:10.1039/c7dt03427j.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-002E-5426-0 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0001-6546-F
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
O’Donoghue, Richard1, Autor           
Rechmann, Julian2, Autor           
Aghaee, Morteza3, Autor           
Rogalla, Detlef4, Autor           
Becker, Hans-Werner4, Autor           
Creatore, Mariadriana3, Autor           
Wieck, Andreas Dirk5, Autor           
Devi, Anjana6, Autor           
Affiliations:
1Inorganic Materials Chemistry, Faculty of Chemistry and Biochemistry, Ruhr-University Bochum, 44801 Bochum, Germany, ou_persistent22              
2Interface Spectroscopy, Interface Chemistry and Surface Engineering, Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH, Max Planck Society, ou_1863358              
3Eindhoven University of Technology, 5612 AZ Eindhoven, The Netherlands, persistent22              
4RUBION, Ruhr University Bochum, 44801 Bochum, Germany, ou_persistent22              
5Chair for Applied Solid State Physics, Ruhr-Universität Bochum, 44801 Bochum, Germany, ou_persistent22              
6Inorganic Materials Chemistry, Ruhr-University Bochum, Universitätsstr. 150, Germany, ou_persistent22              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2017-11-112017-11-21
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: DOI: 10.1039/c7dt03427j
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Dalton Transactions
  Kurztitel : Dalton Trans.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: Cambridge, UK : Royal Society of Chemistry
Seiten: - Band / Heft: 46 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 16551 - 16561 Identifikator: ISSN: 1477-9226
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925269323