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  The Distribution of Voltage in a Capacitor in Response to applied pulses

Bayes, D. V.(1967). The Distribution of Voltage in a Capacitor in Response to applied pulses (IPP 4/39). Garching (DE): Max-Planck-Institut für Plasmaphysik.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-7363-A Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-7364-8
Genre: Bericht

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:
IPP_4_39.1.pdf (beliebiger Volltext), 20MB
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Datei-Permalink:
https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-7365-6
Name:
IPP_4_39.1.pdf
Beschreibung:
-
OA-Status:
Sichtbarkeit:
Öffentlich
MIME-Typ / Prüfsumme:
application/pdf / [MD5]
Technische Metadaten:
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Copyright Datum:
-
Copyright Info:
eDoc_access: PUBLIC
Lizenz:
-

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Urheber

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 Urheber:
Bayes, D. V.1, Autor
Affiliations:
1Max Planck Society, ou_persistent13              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 1967
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: 14 pp.
 Ort, Verlag, Ausgabe: Garching (DE) : Max-Planck-Institut für Plasmaphysik
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 654317
Reportnr.: IPP 4/39
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle

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