Control of layer growth by substrate bias

Häberle, E.; Kopecki, J.; Mutzke, A.; Schneider, R.; Schulz, A.; Walker, M.; Stroth, U.

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Control of layer growth by substrate bias

Häberle, E., Kopecki, J., Mutzke, A., Schneider, R., Schulz, A., Walker, M., et al. (2010). Control of layer growth by substrate bias. Poster presented at 37th EPS Conference on Plasma Physics, Dublin.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0000-5543-5 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0000-5544-4

Genre: Poster

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Urheber:
Häberle, E.¹, Autor
Kopecki, J.¹, Autor
Mutzke, A.², Autor
Schneider, R.², Autor
Schulz, A.¹, Autor
Walker, M.¹, Autor
Stroth, U.³, Autor

Affiliations:
1Institut für Plasmaforschung, Universität Stuttgart, D-70569 Stuttgart, ou_persistent22
2Stellarator Theory (ST), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856287
3External Organizations, ou_persistent22