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  Residual stress analysis in chemical-vapor-deposition diamond films

Liu, T., Pinto, H., Brito, P., Sales, L. A., & Raabe, D. (2009). Residual stress analysis in chemical-vapor-deposition diamond films. Applied Physics Letters, 94(20): 201902 (3pp). doi:10.1063/1.3139083.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0019-4121-9 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0019-4123-5
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Liu, T.1, Autor           
Pinto, H.2, Autor           
Brito, P.3, Autor           
Sales, L. A., Autor
Raabe, D.4, Autor           
Affiliations:
1Microscopy and Diffraction, Microstructure Physics and Alloy Design, Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH, Max Planck Society, ou_1863391              
2Materials Testing, Material Diagnostics and Steel Technology, Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH, Max Planck Society, ou_1863363              
3External Organizations, ou_persistent22              
4Microstructure Physics and Alloy Design, Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH, Max Planck Society, ou_1863381              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2009-05-20
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 430827
DOI: 10.1063/1.3139083
URI: http://link.aip.org/link/?APPLAB/94/201902/1
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Applied Physics Letters
  Alternativer Titel : Appl. Phys. Letters
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 94 (20) Artikelnummer: 201902 (3pp) Start- / Endseite: - Identifikator: -