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  In-situ high-resolution transmission electron microscopy study of interfacial reactions of Cu thin films on amorphous silicon

Lee, S. B., Choi, D.-K., Phillipp, F., Jeon, K.-S., & Kim, C. K. (2006). In-situ high-resolution transmission electron microscopy study of interfacial reactions of Cu thin films on amorphous silicon. Applied Physics Letters, 88: 083117.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-46AF-B Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-46B0-5
Genre: Zeitschriftenartikel
Alternativer Titel : APL

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Lee, S. B.1, Autor           
Choi, D.-K.2, Autor
Phillipp, F.1, Autor           
Jeon, K.-S.2, Autor
Kim, C. K.2, Autor
Affiliations:
1Stuttgart Center for Electron Microscopy, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497669              
2Department of Ceramic Engineering, Hanyang University, Seoul, South Korea;Department of Materials Science and Engineering, Hanyang University, Seoul, South Korea, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Zentrum für Elektronenmikroskopie;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2006
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: 3 pages
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 282005
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Applied Physics Letters
  Alternativer Titel : APL
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 88 Artikelnummer: 083117 Start- / Endseite: - Identifikator: -