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  Obstacle strength of binary junction due to dislocation dipole formation: An in-situ transmission electron microscopy study

Haghighat, S. M. H., & Schäublin, R. E. (2015). Obstacle strength of binary junction due to dislocation dipole formation: An in-situ transmission electron microscopy study. Journal of Nuclear Materials, 465, 648-652. doi:10.1016/j.jnucmat.2015.06.054.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-35B9-9 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-35BA-7
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Haghighat, Seyed Masood Hafez1, 2, Autor           
Schäublin, Robin E.3, 4, Autor           
Affiliations:
1Microstructure Physics and Alloy Design, Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH, Max Planck Society, ou_1863381              
2Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL), Centre de Recherches en Physique des Plasmas, Association Euratom-Confédération Suisse, Villigen PSI, Switzerland, ou_persistent22              
3Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL), Centre de Recherches en Physique des Plasmas, Association Euratom-Confédération Suisse, CH 5232 Villigen PSI, Switzerland, ou_persistent22              
4Laboratory of Metal Physics and Technology, Department of Materials, ETH Zurich, Zurich, Switzerland, ou_persistent22              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2015-07-022015-10
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: DOI: 10.1016/j.jnucmat.2015.06.054
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Nuclear Materials
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 465 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 648 - 652 Identifikator: ISSN: 0022-3115
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925416962