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  Plasmonic films based on colloidal lithography

Ai, B., Yu, Y., Möhwald, H., Zhang, G., & Yang, B. (2014). Plasmonic films based on colloidal lithography. Advances in Colloid and Interface Science, 206, 5-16. doi:10.1016/j.cis.2013.11.010.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0019-D87B-4 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0007-D84E-F
Genre: Zeitschriftenartikel

Dateien

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:
2034812.pdf (Verlagsversion), 3MB
 
Datei-Permalink:
-
Name:
2034812.pdf
Beschreibung:
-
OA-Status:
Sichtbarkeit:
Eingeschränkt (Max Planck Institute of Colloids and Interfaces, MTKG; )
MIME-Typ / Prüfsumme:
application/pdf
Technische Metadaten:
Copyright Datum:
-
Copyright Info:
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Lizenz:
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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Ai, Bin, Autor
Yu, Ye, Autor
Möhwald, Helmuth1, Autor           
Zhang, Gang, Autor
Yang, Bai, Autor
Affiliations:
1Helmuth Möhwald, Grenzflächen, Max Planck Institute of Colloids and Interfaces, Max Planck Society, ou_1863312              

Inhalt

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Details

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Sprache(n):
 Datum: 2014
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: ISI: 000336187100002
DOI: 10.1016/j.cis.2013.11.010
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Advances in Colloid and Interface Science
  Andere : Adv. Colloid Interface Sci.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: Amsterdam : Elsevier
Seiten: - Band / Heft: 206 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 5 - 16 Identifikator: ISSN: 0001-8686