Deutsch
 
Hilfe Datenschutzhinweis Impressum
  DetailsucheBrowse

Datensatz

 
 
DownloadE-Mail
  The effect of Oxygen Reduction on the Self-Assembly and Stability of Thiol Monolayer Films

Rohwerder, M., & Stratmann, M. (2004). The effect of Oxygen Reduction on the Self-Assembly and Stability of Thiol Monolayer Films. Talk presented at 205th Meeting of the ECS. San Antonio, TX, USA. 2004-05-09 - 2004-05-14.

Item is

Externe Referenzen

einblenden:

Urheber

einblenden:
ausblenden:
 Urheber:
Rohwerder, Michael1, Autor           
Stratmann, Martin2, Autor           
Affiliations:
1Molecular Structure and Surface Modification, Interface Chemistry and Surface Engineering, Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH, Max Planck Society, ou_1863360              
2Interface Chemistry and Surface Engineering, Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH, Max Planck Society, ou_1863348              

Inhalt

einblenden:
ausblenden:
Schlagwörter: Presenter: Rohwerder, M.
 Zusammenfassung: -

Details

einblenden:
ausblenden:
Sprache(n): eng - English
 Datum: 2004-05
 Publikationsstatus: Keine Angabe
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 206600
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

einblenden:
ausblenden:
Titel: 205th Meeting of the ECS
Veranstaltungsort: San Antonio, TX, USA
Start-/Enddatum: 2004-05-09 - 2004-05-14

Entscheidung

einblenden:

Projektinformation

einblenden:

Quelle

einblenden: