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  Microstructuring of Molecularly Thin Polymer Layers by Photolithography

Prucker, O., Schimmel, M., Tovar, G., Knoll, W., & Rühe, J. (1998). Microstructuring of Molecularly Thin Polymer Layers by Photolithography. Advanced Materials, 10, 1073-1077.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-000F-5658-4 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-000F-5659-2
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Prucker, O.1, Autor           
Schimmel, M., Autor
Tovar, G., Autor
Knoll, Wolfgang1, Autor           
Rühe, Jürgen1, Autor           
Affiliations:
1MPI for Polymer Research, Max Planck Society, ou_1309545              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 1998
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 359631
Anderer: P-98-140
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Advanced Materials
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 10 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 1073 - 1077 Identifikator: -