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  Highly sensitive resist material for deep X-ray lithography

Schenk, R., Halle, O., Müllen, K., Ehrfeld, W., & Schmidt, M. (1997). Highly sensitive resist material for deep X-ray lithography. Microelectronic Engineering, 35(1-4), 105-108.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-000F-5A02-4 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-000F-5A03-2
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Schenk, R., Autor
Halle, O., Autor
Müllen, Klaus1, Autor           
Ehrfeld, W., Autor
Schmidt, M.1, Autor           
Affiliations:
1MPI for Polymer Research, Max Planck Society, ou_1309545              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 1997
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 436483
Anderer: P-97-52
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Microelectronic Engineering
  Alternativer Titel : Microelectron. Eng.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 35 (1-4) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 105 - 108 Identifikator: -