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  Surface Film Formation by Chemical Vapor Deposition of Di-p-xylylene: Ellipsometrical, Atomic Force Micrsocopy, and X-Ray Studies

Göschel, U., & Walter, H. (2000). Surface Film Formation by Chemical Vapor Deposition of Di-p-xylylene: Ellipsometrical, Atomic Force Micrsocopy, and X-Ray Studies. Langmuir, 16, 2887-2892.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-000F-6ACD-A Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-000F-6ACE-8
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Göschel, U., Autor
Walter, H.1, Autor           
Affiliations:
1MPI for Polymer Research, Max Planck Society, ou_1309545              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2000
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 286239
Anderer: P-00-194
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Langmuir
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 16 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 2887 - 2892 Identifikator: -