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  A New Method for the Determination of the Diffusion-Induced Concentration Profile and the Interdiffusion Coefficient for Thin Film Systems by Auger Electron Spectroscopical Sputter Depth Profiling

Wang, J., & Mittemeijer, E. (2004). A New Method for the Determination of the Diffusion-Induced Concentration Profile and the Interdiffusion Coefficient for Thin Film Systems by Auger Electron Spectroscopical Sputter Depth Profiling. Journal of Materials Research, 19, 3389-3397.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-2B8A-6 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-2B8B-4
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Wang, J.Y.1, Autor           
Mittemeijer, E.J.1, 2, Autor           
Affiliations:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              
2Universität Stuttgart, Institut für Materialwissenschaft, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Mittemeijer;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2004
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 207076
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Materials Research
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 19 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 3389 - 3397 Identifikator: -