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  Electron microscopy study of advanced heterostructures for optoelectronics

Katcki, J., Ratajczak, J., Phillipp, F., Muszalski, J., Bugajski, M., Chen, J. X., et al. (2003). Electron microscopy study of advanced heterostructures for optoelectronics. Materials Chemistry and Physics, 81(2-3), 244-248.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-2D8A-5 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-2D8D-0
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Katcki, J.1, Autor
Ratajczak, J.1, Autor
Phillipp, F.2, Autor           
Muszalski, J.1, Autor
Bugajski, M.1, Autor
Chen, J. X.1, Autor
Fiore, A.1, Autor
Affiliations:
1Institute of Electron Technology, Warsaw, PolandInstitut de Micro-Optoelectronique, Ecole Polytechnique, Lausanne, Switzerland, ou_persistent22              
2Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, DE, ou_1497657              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Rühle; ZWE Hochspannungs-Mikroskopie;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2003
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 48890
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Materials Chemistry and Physics
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 81 (2-3) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 244 - 248 Identifikator: -