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  Sputter depth profiling in AES and XPS

Wagner, T., Wang, J. Y., & Hofmann, S. (2003). Sputter depth profiling in AES and XPS. In D. Briggs, & J. Grant (Eds.), Surface Analysis by Auger and X-Ray Photoelectron Spectroscopy (pp. 619-649). Chichester: IM Publications.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-2DDD-D Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-2DDE-B
Genre: Buchkapitel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Wagner, T.1, Autor           
Wang, J. Y.2, Autor           
Hofmann, S.2, Autor           
Affiliations:
1Central Scientific Facility Thin Film Laboratory, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497640              
2Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Arzt; Abt. Mittemeijer; ZWE Dünnschichtlabor; sputter depth profiling; AES; XPS; electron spectroscopy; MRI model
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2003
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 51200
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Surface Analysis by Auger and X-Ray Photoelectron Spectroscopy
Genre der Quelle: Buch
 Urheber:
Briggs, D., Herausgeber
Grant, J., Herausgeber
Affiliations:
-
Ort, Verlag, Ausgabe: Chichester : IM Publications
Seiten: - Band / Heft: - Artikelnummer: - Start- / Endseite: 619 - 649 Identifikator: -