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  Chemical reactions and morphological stability at the Cu/Al2O3 interface

Scheu, C., Klein, S., Tomsia, A. P., & Rühle, M. (2002). Chemical reactions and morphological stability at the Cu/Al2O3 interface. Journal of Microscopy-Oxford, 208, 11-17.

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基本情報

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-2FE3-2 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-2FE4-F
資料種別: 学術論文
その他のタイトル : J. Microsc.-Oxf.

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作成者

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 作成者:
Scheu, C.1, 著者           
Klein, S.1, 著者           
Tomsia, A. P.1, 著者           
Rühle, M.1, 著者           
所属:
1Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497657              

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Abt. Rühle; 62-ru_2002; Cu/Al2O3; diffusion bonding; interfaces; reaction phases; TEM
 要旨: -

資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2002-10
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 6690
ISI: 000178482900003
 学位: -

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訴訟

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Project information

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出版物 1

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出版物名: Journal of Microscopy-Oxford
  出版物の別名 : J. Microsc.-Oxf.
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: -
ページ: - 巻号: 208 通巻号: - 開始・終了ページ: 11 - 17 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISSN: 0022-2720