Electromigration-induced damage in bamboo Al interconnects

Böhm, J.; Volkert, C. A.; Mönig, R.; Balk, T. J.; Arzt, E.

Electromigration-induced damage in bamboo Al interconnects

Böhm, J., Volkert, C. A., Mönig, R., Balk, T. J., & Arzt, E. (2002). Electromigration-induced damage in bamboo Al interconnects. Journal of Electronic Materials, 31(1), 45-49.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-324E-C 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-324F-A

資料種別: 学術論文

その他のタイトル : J. Electron. Mater.

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eDoc_access: INSTITUT

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Böhm, J.¹, 著者
Volkert, C. A.¹, 著者
Mönig, R.¹, 著者
Balk, T. J.¹, 著者
Arzt, E.^{1, 2}, 著者

所属:
1Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497655
2Universität Stuttgart, Institut für Metallkunde, ou_persistent22

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Abt. Arzt; 04-ar_2002; electromigration; whisker formation; hillock formation

要旨: -

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言語: eng - English

日付: 出版: 2002-01

出版の状態: 出版

ページ: -

出版情報: -

目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 6948
ISI: 000173641900008

学位: -

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出版物名: Journal of Electronic Materials

出版物の別名 : J. Electron. Mater.

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 31 (1) 通巻号: - 開始・終了ページ: 45 - 49 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISSN: 0361-5235

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