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  Growth kinetics and mechanisms of aluminium-oxide films formed by thermal oxidation of aluminum

Jeurgens, L. P. H., Sloof, W. G., Tichelaar, F. D., & Mittemeijer, E. J. (2002). Growth kinetics and mechanisms of aluminium-oxide films formed by thermal oxidation of aluminum. Journal of Applied Physics, 92, 1649-1656.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3324-F Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3325-D
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Jeurgens, L. P. H.1, Autor           
Sloof, W. G., Autor
Tichelaar, F. D., Autor
Mittemeijer, E. J.1, 2, Autor           
Affiliations:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              
2Universität Stuttgart, Institut für Materialwissenschaft, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Mittemeijer; 28-mi_2002;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2002
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 13374
ISI: 000176089000017
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Applied Physics
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 92 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 1649 - 1656 Identifikator: ISSN: 0039-6028