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  Growth kinetics and mechanisms of aluminium-oxide films formed by thermal oxidation of aluminum

Jeurgens, L. P. H., Sloof, W. G., Tichelaar, F. D., & Mittemeijer, E. J. (2002). Growth kinetics and mechanisms of aluminium-oxide films formed by thermal oxidation of aluminum. Journal of Applied Physics, 92, 1649-1656.

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基本情報

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3324-F 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3325-D
資料種別: 学術論文

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作成者

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 作成者:
Jeurgens, L. P. H.1, 著者           
Sloof, W. G., 著者
Tichelaar, F. D., 著者
Mittemeijer, E. J.1, 2, 著者           
所属:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              
2Universität Stuttgart, Institut für Materialwissenschaft, ou_persistent22              

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Abt. Mittemeijer; 28-mi_2002;
 要旨: -

資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2002
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 13374
ISI: 000176089000017
 学位: -

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出版物 1

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出版物名: Journal of Applied Physics
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: -
ページ: - 巻号: 92 通巻号: - 開始・終了ページ: 1649 - 1656 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISSN: 0039-6028