X-ray scattering from misfit dislocations in heteroepitaxial films: The case of 
Nb(110) on Al2O3

Barabash, R. I.; Donner, W.; Dosch, H.

X-ray scattering from misfit dislocations in heteroepitaxial films: The case of Nb(110) on Al₂O₃

Barabash, R. I., Donner, W., & Dosch, H. (2001). X-ray scattering from misfit dislocations in heteroepitaxial films: The case of Nb(110) on Al₂O₃. Applied Physics Letters, 78(4), 443-445.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3589-A 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-358A-8

資料種別: 学術論文

その他のタイトル : Appl. Phys. Lett.

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Barabash, R. I.¹, 著者
Donner, W.², 著者
Dosch, H.^{2, 3}, 著者

所属:
1Univ Stuttgart, Inst Theoret & Angew Phys, D-70569 Stuttgart, Germany; Natl Tech Univ Ukraine, Kiev Polytech Inst, UA-252056 Kiev, Ukraine, ou_persistent22
2Dept. Metastable and Low-Dimensional Materials, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497645
3Universität Stuttgart, Institut für Theoretische und Angewandte Physik, ou_persistent22

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Abt. Dosch;

要旨: -

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言語: eng - English

日付: 出版: 2001-01-22

出版の状態: 出版

ページ: -

出版情報: -

目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 21801
ISI: 000166477300018

学位: -

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出版物名: Applied Physics Letters

出版物の別名 : Appl. Phys. Lett.

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 78 (4) 通巻号: - 開始・終了ページ: 443 - 445 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISSN: 0003-6951

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