In-situ TEM study of thermal-stress induced dislocations in a Cu thin film on a 
SiNx coated Si-substracte

Dehm, G.; Arzt, E.

In-situ TEM study of thermal-stress induced dislocations in a Cu thin film on a SiN_x coated Si-substracte

Dehm, G., & Arzt, E. (2000). In-situ TEM study of thermal-stress induced dislocations in a Cu thin film on a SiN_x coated Si-substracte. In J., Gemperlova, & I., Vavra (Eds.), Proceedings of the 12th European Congress on Electron Microscopy. Vol. 2: Physical Sciences (pp. 523-524). Czechoslovak Society for Electron Microscopy.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3776-4 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3777-2

資料種別: 会議論文

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作成者:
Dehm, G.¹, 著者
Arzt, E.^{1, 2}, 著者

所属:
1Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497655
2Universität Stuttgart, Institut für Metallkunde, ou_persistent22

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Abt. Arzt;

要旨: -

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言語: eng - English

日付: 出版: 2000

出版の状態: 出版

ページ: -

出版情報: -

目次: -

査読: -

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 43722

学位: -

訴訟

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出版物 1

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出版物名: Proceedings of the 12th European Congress on Electron Microscopy. Vol. 2: Physical Sciences

種別: 会議論文集

著者・編者:
Gemperlova, J., 編集者
Vavra, I., 編集者

所属:
-

出版社, 出版地: Czechoslovak Society for Electron Microscopy

ページ: - 巻号: - 通巻号: - 開始・終了ページ: 523 - 524 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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