Off-axis and inline electron holography: A quantitative comparison

Koch, C. T.; Lubk, A.

doi:10.1016/j.ultramic.2009.11.022

Off-axis and inline electron holography: A quantitative comparison

Koch, C. T., & Lubk, A. (2010). Off-axis and inline electron holography: A quantitative comparison. Ultramicroscopy, 110, 460-471. doi:10.1016/j.ultramic.2009.11.022.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3BB6-3 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3BB7-1

資料種別: 学術論文

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Koch, C. T.^{1, 2}, 著者
Lubk, A.³, 著者

所属:
1Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497657
2Stuttgart Center for Electron Microscopy, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497669
3Technische Universität Dresden,Triebenberg Lab, Zum Triebenberg 50, 01328Dresden, Germany, ou_persistent22

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Stuttgart Center for Electron Microscopy (StEM);

要旨: -

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言語: eng - English

日付: 出版: 2010

出版の状態: 出版

ページ: -

出版情報: -

目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 478114
DOI: 10.1016/j.ultramic.2009.11.022

学位: -

訴訟

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出版物 1

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出版物名: Ultramicroscopy

種別: 学術雑誌

著者・編者:

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 110 通巻号: - 開始・終了ページ: 460 - 471 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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