Large excess volume in grain boundaries of stressed, nanocrystalline metallic 
thin films: its effect on grain-growth kinetics

Kuru, Y.; Wohlschlögel, M.; Welzel, U.; Mittemeijer, E. J.

doi:10.1063/1.3248070

Large excess volume in grain boundaries of stressed, nanocrystalline metallic thin films: its effect on grain-growth kinetics

Kuru, Y., Wohlschlögel, M., Welzel, U., & Mittemeijer, E. J. (2009). Large excess volume in grain boundaries of stressed, nanocrystalline metallic thin films: its effect on grain-growth kinetics. Applied Physics Letters, 95:. doi:10.1063/1.3248070.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3E92-0 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3E93-E

資料種別: 学術論文

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Kuru, Y.¹, 著者
Wohlschlögel, M.¹, 著者
Welzel, U.¹, 著者
Mittemeijer, E. J.^{1, 2}, 著者

所属:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644
2Universität Stuttgart, Institut für Materialwissenschaft, ou_persistent22

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キーワード: MPI für Intelligente Systeme; Abt. Mittemeijer;

要旨: -

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言語: eng - English

日付: 出版: 2009

出版の状態: 出版

ページ: -

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査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 452065
DOI: 10.1063/1.3248070

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出版物 1

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出版物名: Applied Physics Letters

種別: 学術雑誌

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ページ: - 巻号: 95 通巻号: 163112 開始・終了ページ: - 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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