Transition from layer-by-layer to rapid roughening in the growth of DIP on SiO2

Zhang, X .N.; Barrena, E.; de Oteyza, D. G.; Dosch, H.

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Transition from layer-by-layer to rapid roughening in the growth of DIP on SiO₂

Zhang, X.., Barrena, E., de Oteyza, D. G., & Dosch, H. (2007). Transition from layer-by-layer to rapid roughening in the growth of DIP on SiO₂. Surface Science, 601, 2420-2425.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-42C1-5 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0023-DA83-7

資料種別: 学術論文

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Zhang, X .N.¹, 著者
Barrena, E.¹, 著者
de Oteyza, D. G.¹, 著者
Dosch, H.^{1, 2}, 著者

所属:
1Dept. Metastable and Low-Dimensional Materials, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497645
2Universität Stuttgart, Institut für Theoretische und Angewandte Physik, ou_persistent22

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Abt. Dosch;

要旨: -

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言語: eng - English

日付: 出版: 2007-04-19

出版の状態: 出版

ページ: -

出版情報: -

目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 317290

学位: -

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出版物 1

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出版物名: Surface Science

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 601 通巻号: - 開始・終了ページ: 2420 - 2425 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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