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  Structural rearrangements during the initial growth stages of organic thin films of F16CuPc on SiO2

de Oteyza, D. G., Barrena, E., Sellner, S., Oriol Osso, J., & Dosch, H. (2006). Structural rearrangements during the initial growth stages of organic thin films of F16CuPc on SiO2. Journal of Physical Chemistry B, 110, 16618-16623.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-45C4-1 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-45C5-0
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
de Oteyza, D. G1, Autor           
Barrena, E.1, Autor           
Sellner, S.1, Autor           
Oriol Osso, J.2, Autor
Dosch, H.1, 3, Autor           
Affiliations:
1Dept. Metastable and Low-Dimensional Materials, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497645              
2Institut für Theoretische und Angewandte Physik, Universität Stuttgart, 70550 Stuttgart, Germany; Institut de Ciencia de Materials de Barcelona, CSIC, 08193 Bellaterra, Spain, ou_persistent22              
3Universität Stuttgart, Institut für Theoretische und Angewandte Physik, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Dosch;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2006-06-27
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 287316
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Physical Chemistry B
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 110 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 16618 - 16623 Identifikator: -