In-situ high-resolution transmission electron microscopy study of interfacial 
reactions of Cu thin films on amorphous silicon

Lee, S. B.; Choi, D.-K.; Phillipp, F.; Jeon, K.-S.; Kim, C. K.

In-situ high-resolution transmission electron microscopy study of interfacial reactions of Cu thin films on amorphous silicon

Lee, S. B., Choi, D.-K., Phillipp, F., Jeon, K.-S., & Kim, C. K. (2006). In-situ high-resolution transmission electron microscopy study of interfacial reactions of Cu thin films on amorphous silicon. Applied Physics Letters, 88:.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-46AF-B 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-46B0-5

資料種別: 学術論文

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Lee, S. B.¹, 著者
Choi, D.-K.², 著者
Phillipp, F.¹, 著者
Jeon, K.-S.², 著者
Kim, C. K.², 著者

所属:
1Stuttgart Center for Electron Microscopy, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497669
2Department of Ceramic Engineering, Hanyang University, Seoul, South Korea;Department of Materials Science and Engineering, Hanyang University, Seoul, South Korea, ou_persistent22

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キーワード: MPI für Metallforschung; Zentrum für Elektronenmikroskopie;

要旨: -

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言語: eng - English

日付: 出版: 2006

出版の状態: 出版

ページ: 3 pages

出版情報: -

目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 282005

学位: -

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出版物名: Applied Physics Letters

出版物の別名 : APL

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 88 通巻号: 083117 開始・終了ページ: - 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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