Composition-Dependent Oxygen Reduction Activity and Stability of Pt–Cu Thin 
Films

Schuppert, Anna Katharina; Topalov, Angel Angelov; Savan, Alan; Ludwig, Alfred; Mayrhofer, Karl Johann Jakob

doi:10.1002/celc.201300078

Lokale TagsFreigabegeschichteDetailsÜbersicht

Composition-Dependent Oxygen Reduction Activity and Stability of Pt–Cu Thin Films

Schuppert, A. K., Topalov, A. A., Savan, A., Ludwig, A., & Mayrhofer, K. J. J. (2014). Composition-Dependent Oxygen Reduction Activity and Stability of Pt–Cu Thin Films. ChemElectroChem, 1(2), 358-361. doi:10.1002/celc.201300078.

Item is Freigegeben

einblenden: alle ausblenden: alle

Basisdaten

einblenden: ausblenden:

Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0019-1FD4-2 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-D292-B

Genre: Zeitschriftenartikel

ausblenden:

Urheber:
Schuppert, Anna Katharina¹, Autor
Topalov, Angel Angelov¹, Autor
Savan, Alan², Autor
Ludwig, Alfred², Autor
Mayrhofer, Karl Johann Jakob¹, Autor

Affiliations:
1Electrocatalysis, Interface Chemistry and Surface Engineering, Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH, Max Planck Society, ou_1863354
2Faculty of Mechanical Engineering, Ruhr-Universität Bochum, Universitätsstr. 150, Bochum, Germany, ou_persistent22