Native oxidation of sputter deposited polycrystalline copper thin films during 
short and long exposure times: Comparative investigation by specular and 
non-specular grazing incidence X-ray absorption spectroscopy

Keil, P.; Frahm, R.; Lützenkirchen-Hecht, D.

Native oxidation of sputter deposited polycrystalline copper thin films during short and long exposure times: Comparative investigation by specular and non-specular grazing incidence X-ray absorption spectroscopy

Keil, P., Frahm, R., & Lützenkirchen-Hecht, D. (2010). Native oxidation of sputter deposited polycrystalline copper thin films during short and long exposure times: Comparative investigation by specular and non-specular grazing incidence X-ray absorption spectroscopy. Corrosion Science, 52, 1305-1305.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0019-3C4F-1 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0019-3C51-A

資料種別: 学術論文

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Keil, P.¹, 著者
Frahm, R., 著者
Lützenkirchen-Hecht, D., 著者

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1Christian Doppler Laboratory for Metal/Polymer Interfaces, Interface Chemistry and Surface Engineering, Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH, Max Planck Society, ou_1863353

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言語: eng - English

日付: 出版: 2010

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識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 498837

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出版物名: Corrosion Science

種別: 学術雑誌

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ページ: - 巻号: 52 通巻号: - 開始・終了ページ: 1305 - 1305 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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