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  Structural phase transition of GaTe at high pressure

Schwarz, U., Syassen, K., & Kniep, R. (1995). Structural phase transition of GaTe at high pressure. Journal of Alloys and Compounds, 224(2), 212-216. doi:10.1016/0925-8388(95)01559-0.

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Urheber

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 Urheber:
Schwarz, U.1, Autor
Syassen, K.1, Autor
Kniep, R.2, Autor           
Affiliations:
1external, ou_persistent22              
2External Organizations, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: -
 Zusammenfassung: We have investigated structural stability and electronic properties of the layered semiconductor GaTe under hydrostatic pressure by X-ray powder diffraction and optical reflectivity measurements in a diamond anvil cell. The monoclinic low-pressure modification undergoes a first-order phase transition at 10(1) GPa into a high-pressure polymorph of the NaCl type structure. Thermal annealing at 475 K and 12 GPa for 12 h turned out to be essential for obtaining well-crystallized samples of the high-pressure phase. The reconstructive structural change is accompanied by a semiconductor-to-metal transition. The cubic modification is metastable with decreasing pressures down to 3 GPa and transforms to an amorphous phase at lower pressures.

Details

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Sprache(n):
 Datum: 1995-07-01
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: ISI: A1995RJ67500011
DOI: 10.1016/0925-8388(95)01559-0
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Alloys and Compounds
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: Lausanne, Switzerland : Elsevier
Seiten: - Band / Heft: 224 (2) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 212 - 216 Identifikator: ISSN: 0925-8388
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925567746