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  Optimizing Photo Mask Layout for Grey‐tone Lithography

Hopf, J.(1996). Optimizing Photo Mask Layout for Grey‐tone Lithography (140). IBFI GmbH, Schloss Dagstuhl, D‐66687 Wadern, Germany: IBFI.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0023-C685-F Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0023-C686-D
Genre: Bericht

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Hopf, Jörn1, Autor           
Claus, Volker2, Herausgeber
Schwefel, Hans‐Paul2, Herausgeber
Affiliations:
1Programming Logics, MPI for Informatics, Max Planck Society, ou_40045              
2External Organizations, ou_persistent22              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 1996
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: IBFI GmbH, Schloss Dagstuhl, D‐66687 Wadern, Germany : IBFI
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: Reportnr.: 140
BibTex Citekey: Hopf96b
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Dagstuhl-Seminar-Report
Genre der Quelle: Reihe
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: - Artikelnummer: - Start- / Endseite: - Identifikator: ISSN: 0940‐1121