Metalorganic chemical vapor deposition of silver thin films for future 
interconnects by direct liquid injection system

Yoon, J.-S.; Fischer, R.; Gori, S.; Knauer, J.

Metalorganic chemical vapor deposition of silver thin films for future interconnects by direct liquid injection system

Yoon, J.-S., Fischer, R., Gori, S., & Knauer, J. (2004). Metalorganic chemical vapor deposition of silver thin films for future interconnects by direct liquid injection system. Journal of the Korean Physical Society, 6, 1544-1552.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-20E8-F 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-20E9-D

資料種別: 学術論文

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Yoon, J.-S.¹, 著者
Fischer, R.^{2, 3}, 著者
Gori, S.^{2, 3}, 著者
Knauer, J.⁴, 著者

所属:
1Korea Basic Sci Inst, Natl Fus R&D Ctr, Taejon, 305806 South Korea; Ctr Interdisciplinary Plasma Science, Garching, D-85748 Germany, ou_persistent22
2Centre for Interdisciplinary Plasma Science (CIPS), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_2074325
3Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288
4W7-X: Project Coordination (PC), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856303

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言語: eng - English

日付: 出版: 2004

出版の状態: 出版

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目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 208503

学位: -

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出版物名: Journal of the Korean Physical Society

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 6 通巻号: - 開始・終了ページ: 1544 - 1552 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISSN: 0374-4884

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