Ion beam analysis of rough thin films

Mayer, M.

Ion beam analysis of rough thin films

Mayer, M. (2002). Ion beam analysis of rough thin films. Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 194(2), 177-186.

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資料種別: 学術論文

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Mayer, M.¹, 著者

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1Material Research (MF), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856328

内容説明

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キーワード: -

要旨: The influence of surface roughness on Rutherford backscattering spectroscopy (RBS) spectra has been studied experimentally and by computer simulation with the SIMNRA code. Rough thin films are described by a distribution of film thicknesses, while rough substrates are approximated by a distribution of local inclination angles. Correlation effects of surface roughness are neglected. Rough film effects can be calculated for RBS including non-Rutherford scattering, nuclear reaction analysis and elastic recoil detection analysis. The results of simulation calculations show good agreement with experimental data. For thin films of high Z elements on rough substrates additionally plural scattering plays an important role. (C) 2002 Elsevier Science B.V. All rights reserved.

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言語: eng - English

日付: 出版: 2002-08

出版の状態: 出版

ページ: -

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目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 21029
ISI: 000177450200010

学位: -

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出版物名: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B: Beam Interactions with Materials and Atoms

出版物の別名 : Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 194 (2) 通巻号: - 開始・終了ページ: 177 - 186 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISSN: 0168-583X

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