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  Limits of ion-beam depth-profiling as used in diffusion studies on oxidation-sensitive materials

Ehmler, H., Rehmet, A., Rätzke, K., & Faupel, F. (2002). Limits of ion-beam depth-profiling as used in diffusion studies on oxidation-sensitive materials. Defect Diffusion Forum, 203(2), 147-152.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-419D-4 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-419E-2
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Ehmler, H.1, Autor           
Rehmet, A., Autor
Rätzke, K., Autor
Faupel, F., Autor
Affiliations:
1Stellarator Scenario Development (E5), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856285              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2002
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 20443
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Defect Diffusion Forum
Genre der Quelle: Zeitschrift
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Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 203 (2) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 147 - 152 Identifikator: -