Deutsch
 
Hilfe Datenschutzhinweis Impressum
  DetailsucheBrowse

Datensatz

DATENSATZ AKTIONENEXPORT
Zur Ablage hinzufügen
 Lokale TagsFreigabegeschichteDetailsÜbersicht
  Calculated Sputtering, Reflection and Range Values

Eckstein, W.(2002). Calculated Sputtering, Reflection and Range Values (IPP 9/132). Garching: Max-Planck-Institut für Plasmaphysik.

Item is

 

einblenden: alle ausblenden: alle

Basisdaten

einblenden: ausblenden:
Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-4522-5 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-4523-3
Genre: Bericht

Dateien

einblenden: Dateien
ausblenden: Dateien
:
IPP-9-132.pdf (beliebiger Volltext), 30MB
Öffnen   Speichern
Datei-Permalink:
https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-4524-1
Name:
IPP-9-132.pdf
Beschreibung:
-
OA-Status:
Sichtbarkeit:
Öffentlich
MIME-Typ / Prüfsumme:
application/pdf / [MD5]
Technische Metadaten:
Öffnen
Copyright Datum:
-
Copyright Info:
eDoc_access: PUBLIC
Lizenz:
-

Externe Referenzen

einblenden:

Urheber

einblenden:
ausblenden:
 Urheber:
Eckstein, W.1, Autor           
Affiliations:
1Material Research (MF), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856328              

Inhalt

einblenden:

Details

einblenden:
ausblenden:
Sprache(n): eng - English
 Datum: 2002
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: 312 S.
 Ort, Verlag, Ausgabe: Garching : Max-Planck-Institut für Plasmaphysik
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 283473
Reportnr.: IPP 9/132
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

einblenden:

Entscheidung

einblenden:

Projektinformation

einblenden:

Quelle

einblenden: