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  Micron-scale modifications of Si surface morphology by pulsed-laser texturing

Schwarz-Selinger, T., Cahill, D. G., Chen, S.-C., Moon, S.-J., & Grigoropoulos, C. P. (2001). Micron-scale modifications of Si surface morphology by pulsed-laser texturing. Physical Review B, 64: 155323. Retrieved from http://prola.aps.org/browse?journal=PRB.

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Urheber

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 Urheber:
Schwarz-Selinger, T.1, 2, Autor           
Cahill, D. G.3, Autor
Chen, S.-C.3, Autor
Moon, S.-J.3, Autor
Grigoropoulos, C. P.3, Autor
Affiliations:
1Centre for Interdisciplinary Plasma Science (CIPS), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_2074325              
2Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288              
3Department of Material Science and Engineering and the Frederick Seitz Materials Research Laboratory, University of Illinois, Urbana, Illinois 61801; Department of Mechanical Engineering, University of California, Berkeley, California 94720-1740, ou_persistent22              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2001
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 254916
URI: http://prola.aps.org/browse?journal=PRB
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Physical Review B
  Alternativer Titel : Phys. Rev. B
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 64 Artikelnummer: 155323 Start- / Endseite: - Identifikator: -