ERRATUM: Infrared Analysis of Thin Films: Amorphous, Hydrogenated Carbon on 
Silicon

Jacob, W.; von Keudell, A.; Schwarz-Selinger, T.

アイテム詳細

登録内容を編集ファイル形式で保存

ERRATUM: Infrared Analysis of Thin Films: Amorphous, Hydrogenated Carbon on Silicon

Jacob, W., von Keudell, A., & Schwarz-Selinger, T. (2001). ERRATUM: Infrared Analysis of Thin Films: Amorphous, Hydrogenated Carbon on Silicon. Brazilian Journal of Physics, 31, 109.

Item is 公開

表示: 全項目非表示: 全項目

基本情報

表示: 非表示:

アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-51B7-7 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-51B8-5

資料種別: 学術論文

ファイル

表示: ファイル

作成者

表示:

非表示:

作成者:
Jacob, W.^{1, 2}, 著者
von Keudell, A.^{1, 2}, 著者
Schwarz-Selinger, T.^{1, 2}, 著者

所属:
1Centre for Interdisciplinary Plasma Science (CIPS), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_2074325
2Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288

内容説明

表示:

資料詳細

表示:

非表示:

言語: eng - English

日付: 出版: 2001

出版の状態: 出版

ページ: -

出版情報: -

目次: -

査読: -

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 286045

学位: -

訴訟

表示:

Project information

表示:

出版物 1

表示:

非表示:

出版物名: Brazilian Journal of Physics

種別: 学術雑誌

著者・編者:

所属:

出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 31 通巻号: - 開始・終了ページ: 109 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

アイテム詳細

基本情報

ファイル

関連URL

作成者

内容説明

資料詳細

関連イベント

訴訟

Project information

出版物 1