A Near-Threshold Study of Xe 3d Photoionization

Kivimäki, A.; Hergenhahn, U.; Kempgens, B.; Hentges, R.; Piancastelli, M. N.; Maier, K.; Rüdel, A.; Tulkki, J. J.; Bradshaw, A. M.

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A Near-Threshold Study of Xe 3d Photoionization

Kivimäki, A., Hergenhahn, U., Kempgens, B., Hentges, R., Piancastelli, M. N., Maier, K., et al. (2000). A Near-Threshold Study of Xe 3d Photoionization. Physical Review A, 63: 012716. Retrieved from http://prola.aps.org/pdf/PRA/v63/i1/e012716.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-5C93-1 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-5C94-0

Genre: Zeitschriftenartikel

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Urheber:
Kivimäki, A., Autor
Hergenhahn, U.¹, Autor
Kempgens, B., Autor
Hentges, R., Autor
Piancastelli, M. N., Autor
Maier, K., Autor
Rüdel, A.², Autor
Tulkki, J. J., Autor
Bradshaw, A. M.³, Autor

Affiliations:
1Electron Spectroscopy Group (ELSPEC), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856298
2Max Planck Society, ou_persistent13
3Office of the Director (DI), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856325