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  Layer Morphology Analysis of Sputter-eroded Silicon Gratings using Rutherford Backscattering

Langhuth, H., Mayer, M., & Lindig, S. (2011). Layer Morphology Analysis of Sputter-eroded Silicon Gratings using Rutherford Backscattering. Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 269(16), 1811-1817. doi:10.1016/j.nimb.2011.05.002.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0026-EAC7-7 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0026-EAC8-5
Genre: Zeitschriftenartikel

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Langhuth_Layer.pdf (beliebiger Volltext), 2MB
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https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0026-EAC9-3
Name:
Langhuth_Layer.pdf
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Öffentlich
MIME-Typ / Prüfsumme:
application/pdf / [MD5]
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Copyright Info:
eDoc_access: PUBLIC
Lizenz:
-

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Urheber

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 Urheber:
Langhuth, H.1, 2, Autor           
Mayer, M.1, 2, Autor           
Lindig, S.1, 2, Autor           
Affiliations:
1Plasma Edge and Wall (E2M), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856327              
2Material Research (MF), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856328              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2011
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 535382
DOI: 10.1016/j.nimb.2011.05.002
URI: http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0168583X11004952
 Art des Abschluß: -

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: Elsevier
Seiten: - Band / Heft: 269 (16) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 1811 - 1817 Identifikator: -