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Details
Übersicht
Sputtering Yields
Eckstein, W.
(2008).
Sputtering Yields.
Vacuum,
82
(9), 930-934. doi:10.1016/j.vacuum.2007.12.004.
Item is
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Basisdaten
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Datensatz-Permalink
:
https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-007A-7
Versions-Permalink
:
https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-007B-5
Genre
:
Zeitschriftenartikel
Dateien
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ausblenden: Dateien
:
Eckstein_Sputtering.pdf (beliebiger Volltext), 265KB
Öffnen
Speichern
Datei-Permalink
:
https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-007C-3
Name
:
Eckstein_Sputtering.pdf
Beschreibung
:
-
OA-Status
:
Sichtbarkeit
:
Öffentlich
MIME-Typ / Prüfsumme
:
application/pdf
/ [MD5]
Technische Metadaten
:
Öffnen
Copyright Datum
:
-
Copyright Info
:
eDoc_access: PUBLIC
Lizenz
:
-
Externe Referenzen
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Urheber
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ausblenden:
Urheber
:
Eckstein, W.
1
, Autor
Affiliations
:
1
Material Research (MF), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856328
Inhalt
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Schlagwörter
:
18th Ion Surface Interactions Conference, Zvenigorod, 2007-08-24 to 2007-08-28
Zusammenfassung
:
-
Details
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ausblenden:
Sprache(n)
:
eng - English
Datum
:
Erschienen:
2008
Publikationsstatus
:
Erschienen
Seiten
:
-
Ort, Verlag, Ausgabe
:
-
Inhaltsverzeichnis
:
-
Art der Begutachtung
:
Expertenbegutachtung
Identifikatoren
:
eDoc: 362282
DOI:
10.1016/j.vacuum.2007.12.004
Art des Abschluß
:
-
Veranstaltung
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Entscheidung
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Projektinformation
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Quelle 1
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ausblenden:
Titel
:
Vacuum
Genre der Quelle
:
Zeitschrift
Urheber
:
Affiliations
:
Ort, Verlag, Ausgabe
:
Elsevier
Seiten
:
-
Band / Heft
:
82 (9)
Artikelnummer
:
-
Start- / Endseite
:
930 - 934
Identifikator
:
-