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  Chemical sputtering of carbon films by simultaneous irradiation with argon ions and molecular oxygen

Hopf, C., Schlüter, M., Schwarz-Selinger, T., von Toussaint, U., & Jacob, W. (2008). Chemical sputtering of carbon films by simultaneous irradiation with argon ions and molecular oxygen. New Journal of Physics, 10:. doi:10.1088/1367-2630/10/9/093022.

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基本情報

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-0088-7 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-0089-5
資料種別: 学術論文

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:
Hopf_chemicalsputtering.pdf (全文テキスト（全般）), 2MB
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ファイルのパーマリンク:
https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-008A-3
ファイル名:
Hopf_chemicalsputtering.pdf
説明:
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MIMEタイプ / チェックサム:
application/pdf / [MD5]
技術的なメタデータ:
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著作権日付:
-
著作権情報:
eDoc_access: PUBLIC
CCライセンス:
-

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作成者

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 作成者:
Hopf, C.1, 著者           
Schlüter, M.2, 著者           
Schwarz-Selinger, T.3, 著者           
von Toussaint, U.3, 著者           
Jacob, W.3, 著者           
所属:
1ITER Technology & Diagnostics (ITED), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856290              
2External Organizations, ou_persistent22              
3Material Research (MF), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856328              

内容説明

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資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2008
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 362411
URI: http://www.iop.org/EJ/abstract/1367-2630/10/9/093022
DOI: 10.1088/1367-2630/10/9/093022
 学位: -

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出版物 1

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出版物名: New Journal of Physics
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: IoP
ページ: - 巻号: 10 通巻号: 093022 (27pp) 開始・終了ページ: - 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -