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  The interaction of atomic hydrogen with very thin amorphous hydrogenated silicon films analyzed using in situ real time infrared spectroscopy: Reaction rates and the formation of hydrogen platelets

Keudell, A. v., & Abelson, J. R. (1998). The interaction of atomic hydrogen with very thin amorphous hydrogenated silicon films analyzed using in situ real time infrared spectroscopy: Reaction rates and the formation of hydrogen platelets. Journal of Applied Physics, 84(1), 489-495. doi:10.1063/1.368082.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-8833-9 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-8834-7
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Keudell, A. von1, Autor           
Abelson, J. R.2, Autor
Affiliations:
1Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288              
2Coordinated Science Laboratory, University of Illinois at Urbana-Champaign, Urbana, Illinois 61801, ou_persistent22              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 1998
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 627763
DOI: 10.1063/1.368082
URI: http://dx.doi.org/10.1063/1.368082
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Applied Physics
Genre der Quelle: Zeitschrift
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Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 84 (1) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 489 - 495 Identifikator: -