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  Hydrogen bonding in plasma-deposited amorphous hydrogenated boron films

Sass, M., Annen, A., & Jacob, W. (1997). Hydrogen bonding in plasma-deposited amorphous hydrogenated boron films. Journal of Applied Physics, 82(4), 1905-1908. doi:10.1063/1.365997.

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基本情報

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-89AB-4 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-89AC-2
資料種別: 学術論文

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作成者

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 作成者:
Sass, M.1, 著者           
Annen, A.2, 著者           
Jacob, W.2, 著者           
所属:
1External Organizations, ou_persistent22              
2Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288              

内容説明

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資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 1997
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 624622
DOI: 10.1063/1.365997
URI: http://jap.aip.org/resource/1/japiau/v82/i4/p1905_s1
 学位: -

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出版物 1

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出版物名: Journal of Applied Physics
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: -
ページ: - 巻号: 82 (4) 通巻号: - 開始・終了ページ: 1905 - 1908 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -