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  Deposition and characterization of dense and stable amorphous hydrogenated boron films at low substrate temperatures

Annen, A., Beckmann, R., & Jacob, W. (1997). Deposition and characterization of dense and stable amorphous hydrogenated boron films at low substrate temperatures. Journal of Non-Crystalline Solids, 209(3), 240-246. doi:10.1016/S0022-3093(96)00568-6.

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Urheber

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 Urheber:
Annen, A.1, Autor           
Beckmann, R.2, Autor
Jacob, W.1, Autor           
Affiliations:
1Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288              
2Max Planck Society, ou_persistent13              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 1997
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Non-Crystalline Solids
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 209 (3) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 240 - 246 Identifikator: -