Electron and hole doping in NiO

Reinert, F.; Steiner, P.; Hüfner, S.; Schmitt, H.; Fink, J.; Knupfer, M.; Sandl, P.; Bertel, E.

doi:10.1007/BF01317591

Electron and hole doping in NiO

Reinert, F., Steiner, P., Hüfner, S., Schmitt, H., Fink, J., Knupfer, M., Sandl, P., & Bertel, E. (1995). Electron and hole doping in NiO. Zeitschrift für Physik B: Condensed Matter, 97(1), 83-93. doi:10.1007/BF01317591.

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資料種別: 学術論文

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Reinert, F., 著者
Steiner, P., 著者
Hüfner, S., 著者
Schmitt, H., 著者
Fink, J.¹, 著者
Knupfer, M., 著者
Sandl, P.², 著者
Bertel, E.², 著者

所属:
1Experimental Plasma Physics 1 (E1), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856295
2Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288

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言語: eng - English

日付: 出版: 1995-03

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査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 627995
DOI: 10.1007/BF01317591
URI: http://link.springer.com/article/10.1007%2FBF01317591

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出版物名: Zeitschrift für Physik B: Condensed Matter

種別: 学術雑誌

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ページ: - 巻号: 97 (1) 通巻号: - 開始・終了ページ: 83 - 93 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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