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  Aufbau eines in-situ-IR-Spektralellipsometers zur Charakterisierung plasmadeponierter C:H-Schichten.- Design of an in-situ spectroscopic IR ellipsometer for characterization of plasma-deposited C:H films.

Friedl, A. (1994). Aufbau eines in-situ-IR-Spektralellipsometers zur Charakterisierung plasmadeponierter C:H-Schichten.- Design of an in-situ spectroscopic IR ellipsometer for characterization of plasma-deposited C:H films. PhD Thesis, Technische Universität München, München (DE).

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-9144-F Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-9145-D
Genre: Hochschulschrift

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Friedl, A.1, Autor           
Affiliations:
1External Organizations, ou_persistent22              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): deu - German
 Datum: 1994
 Publikationsstatus: Angenommen
 Seiten: 93 p.
 Ort, Verlag, Ausgabe: München (DE) : Technische Universität München
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 655282
Anderer: IPP 4/267
 Art des Abschluß: Doktorarbeit

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle

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